こんにちは！北の熱い講師オッケーです！
さあ！「正念場」を迎えます。
「日本」の力が試されます。
試作拠点開所
ラピダス（東京）が千歳工場で進める試作は2年目に入り、2027年度の量産に向けて新たな段階に入りました。
今春から試作を本格化する「後工程」は近年重要性を増し、回路の微細化と並ぶ競争軸になりつつあると言われています。
政府はラピダスへの直接支援に加え、顧客候補の半導体設計や千歳への研究拠点の立地など、側面支援も相次ぎ打ち出しています。
資金と顧客、環境整備に筋道が見えつつある中、本丸ともいえるラピダス自身の量産技術確立が最大の焦点となります。
まさに、「正念場」を迎えます。
「世界初の工場」の試作
記者会見する（左から）東会長、小池社長、鈴木知事、横田千歳市長（北海道新聞より）
「前工程と後工程が一体となる、世界で初めての工場がいよいよ実現の段階に入ってきた」。ラピダスの小池淳義社長は4月11日、試作拠点開所式後の記者会見でそう力を込めてコメント。
半導体製造は、まず前工程でシリコンの基板に回路を形成する。続く後工程で基板からチップを切り出し、別の基板上で他の部品と組み合わせて製品に仕上げる。
ラピダスは昨年4月に千歳工場で前工程の試作を始めた。
今春からは、セイコーエプソン千歳事業所内に設けた拠点で後工程の試作を本格化する。
高まる要求水準
半導体各社は前工程の微細化で性能向上を競ってきたが、回路線幅が数ナノメートル（ナノは10億分の1）単位となる中で「技術開発や設計のコストが上昇し、微細化は限界が近い」（アナリスト）。
人工知能（AI）の普及で求められる性能水準は年々引き上がっており、最大手の台湾積体電路製造（TSMC）や米インテルが独自技術を打ち出すなど後工程が新たな競争領域となっている。
ラピダスの半導体工場=2026年2月、千歳市（北海道新聞社ヘリから）
ラピダスは後工程で用いる基板に1辺60センチの角形基板を採用。
現在主流の直径30センチの円形基板と比べ、1枚の基板から10倍以上の製品を作ることができるため「生産性を高め、かつコストを下げられる」（小池社長）とコメント。
今後試作ラインで量産技術の検証を進め、28年度には千歳工場内に後工程の量産ラインを設けることで、両工程の一貫製造を行う計画です。
研究支援2.4兆円
試作が正念場を迎える中、政府支援は矢継ぎ早です。
ラピダスへの研究開発支援額は累計2兆4千億円に上り、25、26年度で計2500億円の政府出資も計画。
さらに2ナノ級半導体の設計支援について、キヤノンを対象とすることを決め、４月11日には日本IBMと富士通を選定したと発表しました。
試作だけでなく「将来的にはラピダスへの発注を期待している」（経済産業省幹部）と顧客開拓でも前面に出でてPR。
政府は一帯への研究拠点集積も進めています。
技術研究組合最先端半導体技術センター（LSTC、東京）が公立千歳科学技術大に設ける研究拠点では、後工程の先端技術を開発するとのこと。
工場が立地する工業団地「千歳美々ワールド」では、産業技術総合研究所（産総研）が前工程の技術研究拠点も計画しており、千歳市の横田隆一市長は「次世代半導体の一大集積地になる」と期待を込めるコメント。
この1年の技術改善が実現の鍵を握る
ラピダスが新たに設けた解析センターでは、これまで外部機関などに分散していた試作品の性能評価に用いる設備を工場隣接の拠点に統合する。
分析能力の向上により「圧倒的なスピードで性能を改善できる」（小池社長）という。
2ナノ級の量産技術確立には競合各社も苦戦しており、ハードルは決して低くない。
量産開始目標まで2年を切る中、この1年の技術改善が国産最先端半導体実現の鍵を握る。
「世界の千歳」としなければなりません！
今日を大切に明るく元気に行きましょう！
お仕事の方、お疲れ様です！
いってらっしゃい！
